HASK Beyond Moisture Recovery Mask | Hydraterend haarmasker
HASK Beyond Moisture Recovery Mask | Hydraterend haarmasker
Voorraad laag
Kan beschikbaarheid voor afhalen niet laden
Gratis verzending vanaf €50
Discreet verpakt
Voor 21:30 uur besteld, morgen in huis!
Algemeen — HASK Beyond Moisture Recovery Mask (235 ml) is speciaal ontwikkeld voor wie worstelt met extreem droog, broos of moeilijk doorkambaar krullend haar. Dit rijke, romige conditioneringsmasker hydrateert intens, verzacht de haarvezel en helpt toekomstige schade te verminderen, zodat je vanaf de eerste keer glanzendere, veerkrachtigere krullen ziet en voelt. Geschikt voor alle krultypes en ideaal als herstelkuur na hitte of chemische behandelingen.
- Intens hydraterend: herstelt vochtbalans voor zachte, soepel vallende krullen
- Verbetert doorkambaarheid: maakt ontwarren makkelijker zonder extra breuk
- Versterkende formule met shea- en murumuru-boter
- Geschikt voor alle krultypes en voor beschadigd, droog haar
- Rijk, romig masker dat vanaf het eerste gebruik glans en zachtheid geeft
Gebruik — Breng het masker royaal aan op schoon, handdoekdroog haar, van aanzet tot punten. Werk in secties en gebruik je vingers of een grove kam om het haar voorzichtig te ontwarren en gelijkmatig te verdelen. Laat het 3–5 minuten inwerken en spoel daarna grondig uit. Voor intensiever herstel kun je het masker iets langer laten zitten of als wekelijkse kuur gebruiken.
Dosering/Ingrediënten — Eén verpakking bevat 235 ml verzorgend haarmasker. De formule bevat o.a. glycerin voor vochtbinding, Butyrospermum parkii (shea) butter en Astrocaryum murumuru seed butter voor verzachting en voeding, plus Musa sapientum (banana) fruit extract en Polyquaternium-39 voor betere handelbaarheid en glans. Volledige INCI: Aqua/Water/Eau, Cetyl alcohol, Behentrimonium chloride, Stearyl alcohol, Glycerin, Cetearyl alcohol, Butyrospermum parkii (shea) butter, Glycol distearate, Astrocaryum murumuru seed butter, Musa sapientum (banana) fruit extract, Leuconostoc/radish root ferment filtrate, Polyquaternium-39, Ceteareth-20, Sodium benzoate, Citric acid, Phenoxyethanol, Parfum/Fragrance.
Waarschuwingen — Alleen voor uitwendig gebruik. Vermijd contact met de ogen; bij contact direct met veel water uitspoelen. Buiten bereik van kinderen bewaren en afgesloten bewaren. Raadpleeg een arts of dermatoloog bij aanhoudende irritatie, een bekende allergie voor een van de ingrediënten of bij twijfel over gebruik tijdens zwangerschap of bij huidgevoeligheid.
Veelgestelde vragen & tips — Gebruik het masker wekelijks of naar behoefte voor intens herstel; combineer met een hydraterende conditioner of leave-in voor extra definitie. Tip: gebruik een microvezelhanddoek en een grove kam om breuk te minimaliseren tijdens het ontwarren. Klaar om je krullen nieuw leven in te blazen? Bestel HASK Beyond Moisture Recovery Mask vandaag en ervaar zachtere, glanzendere en beter handelbare krullen.
